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探讨成像提高超衍射透镜成像分辨力的论述和策略学士论文
对于设计曲平超透镜的缩小倍率为4,远场投影焦斑超衍射缩小到32nm。分析远场投影焦斑的横纵向移焦对超衍射缩小焦斑的强度和峰值半宽的影响。验证提出曲平超透镜的视场和纵向焦深约为300nm和80nm。相对于保形坐标变换设计的平面缩小的超透镜,曲平超透镜设计能够降低加工难度。该设计能够用于近场超衍射成像、激光加工和光存储
摘要:光学成像体系分辨力有着衍射极限的本质在于,携带物体精细结构的光场信息体现为倏逝波行为,无法参与成像,导致光学显微镜的分辨力只有半个波长左右。近年来,表面等离子体亚波长光学的进展,使操控倏逝波振幅、位相和耦合传输行为成为可能,为超衍射光学成像的探讨提供了重要契机。本文开展提升超衍射透镜成像分辨力的论述和办法探讨,论文的工作内容和成果主要包括:1.开展相移掩模的设计提升超透镜成像光刻分辨力的探讨,数值模拟对30nm线宽的掩模交替填充Ag和PMMA材料,满足相移掩模的设计要求。通过邻近双缝π相位差的相消干涉,提升超透镜成像光刻分辨力和曝光深度。比较实验报道的365nm紫外光照明,35nm厚银透镜对半周期60nm光栅的曝光深度问题10纳米结果,相移掩模能够将其分辨力提升到35nm (~λ/10),曝光深度约为25nm。2.探讨曲平超透镜对接远场光学体系投影射缩小成像光刻的规律,对于设计曲平超透镜的缩小倍率为4,远场投影焦斑超衍射缩小到32nm。分析远场投影焦斑的横纵向移焦对超衍射缩小焦斑的强度和峰值半宽的影响。验证提出曲平超透镜的视场和纵向焦深约为300nm和80nm。相对于保形坐标变换设计的平面缩小的超透镜,曲平超透镜设计能够降低加工难度。该设计能够用于近场超衍射成像、激光加工和光存储的运用。3.开展表面等离子体亚波长结构的相衬成像办法探讨,提出具有相衬效果的MIM结构透镜。该结构通过增强透明纳米物体的位相信息,调制宽频谱范围内倏逝频谱与背景照明光的位相差为π/2实现超衍射相衬效果,将微弱位相信息转化为光强分布。初步获得半周期32nm的空间分辨力和折射率差0.05的折射率分辨力的数值结果。该探讨搭建纳米位相物体和远场显微技术之间的桥梁。 关键词:衍射极限论文 表面等离子体论文 相移掩模论文 光刻技术论文 相衬成像论文
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    致谢3-4

    摘要4-5

    ABSTRACT5-7

    目录7-10

    第1章 前言10-32

    1.1 衍射极限10-11

    1.2 超衍射成像技术探讨发展11-20

    1.2.1 表面等离子体超衍射成像探讨发展12-16

    1.2.2 荧光标记扫描超衍射成像探讨发展16-17

    1.

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